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13345262695光化學氧化技術處理(lǐ)印染廢水
時間:2017-05-12瀏覽量:976
光化(huà)學氧化技術屬於高級氧化工藝,是新興的現代水處理技術,該技(jì)術通過氧化劑(O3、H2O2等)在紫外(或可見(jiàn))光(guāng)的激發和催化劑(Fe2+、Fe3+ 、半導體等)的催化作用下,產生具有強氧化性(xìng)的羥基自由基,羥基自由基的標(biāo)準氧化電位達2.8eV,是(shì)除元素(sù)氟以外最(zuì)強的氧化(huà)劑,能(néng)無選(xuǎn)擇地將絕大多數有機物徹底氧化成CO2、H2O和其它無機物,反應(yīng)速度快,耗時短,反應條件溫和(常溫、常壓),操作條件易於控(kòng)製,無二次汙(wū)染。印染廢水中染料的(de)顏(yán)色來源於染料分子的共扼體係—含不飽和基(jī)團-N=N-、-N=O等的發色體,光化學氧化產生的羥基自由基能夠有效(xiào)打破共扼體係(xì)結構,使之變成無(wú)色的有機分子,並進一步礦化為(wéi)H2O、CO2和其他(tā)無機物質。光化學氧化工(gōng)藝上的特點和染料的分子結構特征決定了光化學(xué)氧化技術(shù)在印染廢水處理方麵具有(yǒu)其他工藝所無可比(bǐ)擬的優勢。
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